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电镀电源与工艺之间区别

时间:2020-07-02 75次浏览

电镀电源的输出电压低,电流大。 根据工艺要求,额定输出电压通常为6到30V,额定电流通常为几百安培至几千安培,有些甚至高达几万安培。 电镀属于电解加工工艺,电镀功率在电镀工艺中具有重要地位。 电镀施加的电压值取决于电镀液的成分和工艺规格。 除了电镀液的成分和工艺规范外,电流值还与电镀部件的面积有关。


1,切换

开关电源具有硅整流器的波形平滑度和晶闸管调压方便的优点。 电流效率高,体积最小。 具有数千安培至数万安培的大功率开关电源已经进入实际生产阶段。 开关电源的频率已达到音频频率,通过滤波更容易实现低纹波输出。 而且,诸如电流稳定和电压稳定的功能更容易实现。 因此,开关电源是未来发展的方向。

2,整流器类型

硅整流器:硅整流器具有悠久的使用历史和成熟的技术,是目前整流器的主流产品。 各种整流电路会产生脉动直流电,而不是纯直流电。 为了比较脉动分量的数量,通常使用纹波系数。 值越小,交流分量越少,越接近纯直流。 各种整流电路的波动系数是不同的。 从大到小的顺序为:三相半波整流,三相全波桥式整流或带平衡电抗器的六相双反向星型整流。 晶闸管使用普通的晶闸管整流器,通过改变晶闸管的导通角来调节平均直流输出。 晶闸管的输出是不连续的脉冲波,其纹波系数由导通角控制,输出纹波系数大于普通的硅整流电路。

3,电镀功率对电镀工艺的影响

硫酸锡镀层本身不是很好的镀层。 原因是杂质容易在大批量生产中引入并且不容易处理(包括四价锡离子),允许的温度范围狭窄,并且大多数增白剂目前都不理想。 该过程还需要使用具有低纹波系数的直流电源,否则将发生类似于光亮酸性镀铜的故障。

直流电源波形对电镀设备的质量有显着影响。 在所有电镀工艺中,铬电镀是受功率波形影响最大的一种电镀类型。 镀铬必须使用低纹波直流电源,否则亮度范围狭窄,并且镀层易于起霜和变灰。 当使用高效硬铬镀层添加剂时,会产生微裂纹铬层。 当输出纹波太大时,裂纹不致密且分布不均,无法达到所需的裂纹数量。

光亮的铜镀层有一个规律:从赫尔电池测试片来看,阴极电流密度越高,镀层的光水平就越好; 电流密度越低,光水平越差。 尝试扩大低电流密度区域的亮度范围,同时降低高电流密度区域的亮度,光均匀性最好。 实际上,使用相同的公式,工艺条件和使用相同的增白剂,可以获得亮度均匀性和亮度范围,但是可能会有很大差异,这与直流电源的输出纹波系数的大小有很大关系 用过的。

光亮镍镀层比铬镀层和光亮酸性铜镀层需要更少的整流输出纹波系数,但还需要使用普通的低波纹输出直流电源来确保光亮镍镀层的质量并确保后续 套铬质量。

电镀液的温升:纹波系数大的直流电源和脉冲电源往往会加速温升。 波纹系数越大,谐波分量越大,谐波分量会产生大量的欧姆热,从而加速电镀液的温度上升。 使用平滑的直流电有利于降低浴温。 整流器负载率对波系数的影响:工作电流越接近整流器的额定电流,波形就越平滑。 选择整流器时,应根据工艺要求选择额定输出电源电压,使其接近最大需求值,以确保整流器电源纹波系数始终保持较低值。

4,脉冲电源设备

脉冲电源主要由嵌入式单片机等控制。因此,除了脉冲输出外,它通常还具有多种控制功能。

(1)自动稳定电流调节。 传统硅整流器的电流或电压不能自动稳定,并且会随着电网电压的波动而波动。 脉冲电源具有高精度的自动调整功能,脉冲电源的输出电压几乎不变。 脉冲电源的自动调节功能通常有两种模式:一种是恒流电压限制模式。 第二,恒压限流模式。

(2)多阶段操作模式。 在对铝或硬铬镀层进行阳极氧化时,经常需要进行反向电解,大电流冲击,步进功率传输和其他操作。 具有多级操作模式的脉冲电源仅需要预先设置,并且可以在生产过程中按顺序自动调整。 此功能对于镀硬铬非常有用,并且每次可以在0到255秒之间调整设置。

(3)双向脉冲功能。 正负脉冲频率,占空比,正负输出时间可独立调节,使用灵活方便。 与硬铬电镀工艺配合使用,可以获得具有不同物理性能的涂层。

(4)直流叠加功能。 在输出正负脉冲电流时,纯直流分量被叠加并由同一电源输出,这进一步扩展了脉冲电源的使用范围和应用范围。

对于电镀,除硬铬电镀外,可控硅整流器比高频电源更稳定。 其他电镀通常使用高频脉冲电源。 在此阶段,镀铬也使用高频脉冲,因为晶闸管的转换速率太低并且功耗太大,这不符合成本效益。 也有一些优质的镀镍,一般的输出也需要使用滤波,普通的常规电源只对输出进行滤波,甚至有些不进行输入滤波。